某半导体芯片打造厂家因晶圆刷洗工艺技术产生含氨污废水 ，蓄水量200吨/天。污废水 中除高锰酸盐指数外还内含氟化物和轻微高价属，治理强度大。当地的排出规格条件高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废污水材料及起源 晶圆清理废渣（基本来源于）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀环节废水处理工艺：含少量铜、镍等天价属，pH值波动性大 CMP研磨设备废水处理：含硅颗粒肥料及高锰酸盐指数 处里制作工艺步骤 选择"化学式沉垫+膜脱离+折点氯化"组成加工制作工艺 ： 预进行处理 ：加药系统CaCl2除氟，设定pH在7.5-8. 反渗透膜系统化 ：我们要除0.01μm以下粒状物 反渗透膜性浓缩液 ：将氯离子原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 至1000mg/L以上的 折点氯化 ：精准度管控氯加药系统量，将氯离子转成为离氮气 亚铁离子变换 ：得到保障血本属符合标准 决定性效果好 氯离子维持＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属量不超过检查测量限 水造纸废水处理率达75% 飞灰出现量才能减少40%